從另一個維度看︰世界是由無數的0和1組成。

芯片，作為處理這些海量0與1字符串數據的核心，其內部結構是由幾百萬甚至幾十億個晶體管構成的復雜網絡。

1961年，Fairchild（仙童公司）第一款芯片上只有4個晶體管。2024年，國際固態電路大會（ISSCC 2024）上，台積電正式公布了先進封裝技術，該技術有望將晶體管數量從目前的1000億個提升到1萬億個。

從4到1萬億，更強大的計算能力，卻只需要更低的運算成本，這或許正是摩爾定律的魅力所在。

而維持摩爾定律的關鍵，正是光刻機。

光刻機︰芯片界的“微雕藝術家”

想象一下，用筆在紙上繪制出僅頭發絲萬分之一粗細的圖案，這需要極其精細的技藝和穩定的心神。光刻機正是在納米尺度上進行這種精細創作的“藝術家”。光刻機利用激光作為“畫筆”，在　片上“繪制”出復雜的電路圖案，其原理類似于童年時代的陽光印刷，通過光線的穿透和遮擋，將設計圖案精準地轉移到　片上。

光刻工藝是半導體制造中最為關鍵的環節之一，它通過圖形轉移技術，為芯片的制造奠定了基礎。

1）首先，晶圓經過涂膠顯影設備的預處理，如脫水烘焙，在表面涂覆光刻膠，並進行軟烘干；

2）然後，晶圓被送入光刻機，經過精確的掃描對準，光線透過掩膜版對光刻膠進行曝光，形成所需的圖案；

3）最後，晶圓返回涂膠顯影設備，通過顯影液處理，使曝光區域的光刻膠溶解，形成電路圖案，隨後進行硬烘干和後續的刻蝕或離子注入工藝，完成整個光刻過程。

光刻工藝不僅在芯片生產流程中佔據核心地位，而且光刻機本身也是技術的集大成者。

從成本角度來看，光刻工序在整個集成電路制造過程中佔有重要比重，通常需要進行20至30次，佔總成本的30%，且耗費的時間約佔整個　片工藝的40%至60%。

高技術壁壘下的“三國演義”市場格局

目前，全球光刻機市場由ASML、Nikon和Canon三家公司主導，形成了高集中度的市場格局。2023年，這三家公司的光刻機銷售量分別為449台、45台和187台，總計681台，顯示了它們在市場上的主導地位。

EUV（極紫外）光刻技術作為市場上最先進的光刻技術，能夠制造7nm及以下工藝的芯片。ASML作為全球唯一能夠生產EUV光刻機的公司，其技術領先地位為市場帶來了新的增長點。同時，其他光刻技術如ArF浸沒式光刻、多鏡頭投影光學系統等也在不斷發展，為市場提供了多樣化的選擇。

市場數據統計顯示，2018至2022年間，三大光刻機供應商的營收總額從123億美元增長至198億美元，年復合增長率（CAGR）達到了13%。預測數據指出，2017至2026年，全球光刻機市場規模將從約83億美元增長至約310億美元，年復合增長率（CAGR）大約為15.8%，總體呈上升趨勢。

數據來源︰Gartner，《半導體制造光刻機發展分析》，平安證券研究所

創新驅動著芯片需求的增長。隨著人工智能、物聯網、5G通信、自動駕駛等新興技術的快速發展，對高性能芯片的需求不斷攀升。這些技術對芯片的計算能力、功耗和集成度提出了更高的要求，推動著半導體技術的持續進步。

芯片產業的供應鏈錯綜復雜，涉及全球範圍內的合作與分工。一顆芯片的誕生，可能始于加州或中國的工程師團隊，他們或使用美國設計軟件，根據英國公司提供的藍圖進行設計。設計完成後，可能在中國台灣的工廠進行生產，該工廠從日本采購超純　片及特殊氣體，利用荷蘭公司制造的光刻機，將設計精準地刻畫在　片上。這些高性能芯片在東南亞完成封裝與測試後，被運往全球各地，應用于手機、電腦、汽車等多種產品。

芯片，已成為現代生活不可或缺的一部分。

國產光刻機的漫長征程

在全球光刻機市場中，中國正逐漸成為一股不可忽視的力量。多年來的不懈努力，使得中國光刻機技術取得了顯著進步。2019年，上海微電子成功研發出我國首台分辨率達到28納米的國產光刻機，打破了國際巨頭在高端光刻機市場的壟斷。在光刻機產業鏈上游，中國也取得了關鍵性的突破，尤其是在雙工件台、光源和光學鏡頭等關鍵子系統方面。

這些突破不僅為中國半導體產業注入了新的活力，也為全球光刻機市場帶來了新的競爭力量。嘉實基金大科技研究總監王貴重指出，半導體有很強的國產替代邏輯。作為國家戰略性產業，半導體行業是國家競爭力的重要組成部分，預計將持續受到政策和產業的推動。從半導體到信息創新，從高端準備到新材料，特別是在光刻機這樣的關鍵環節，全面國產化是未來發展的必然趨勢。

展望未來，預期光刻機等關鍵技術問題將得到解決，有助于進一步推動先進制程的擴產。市場將密切關注下游終端需求的復甦力度，以及國產算力芯片及設備等國產份額的提升節奏。同時，也需關注潛在風險因素對板塊的影響。整體而言，預計未來板塊將走向分化，那些能夠實現業績和兌現邏輯的公司將展現出更好的持續性。

根據市場研究機構的數據，2019年中國進口光刻機數量超過400台，佔全球市場份額的近30%。這表明，中國在光刻機技術方面已取得顯著進展，但仍需繼續努力，以提升國產光刻機的性能和市場佔有率。

政府出台的一系列政策，如資金補助、稅收優惠、人才培養等，為半導體產業的發展提供了有力支持。這些政策有助于推動國產光刻機的研發和產業化，減少對外依賴，提升國內半導體產業的整體競爭力。

國產光刻機的崛起，預示著市場將迎來新的活力和增長潛力。

*風險提示︰基金投資需謹慎。投資人應當閱讀《基金合同》《招募說明書》《產品資料概要》等法律文件，了解基金的風險收益特征，特別是特有風險，並根據自身投資目的、投資經驗、資產狀況等判斷是否和自身風險承受能力相適應。基金管理人承諾以誠實信用、謹慎盡責的原則管理和運用基金資產，但不保證基金一定盈利或本金不受損失。過往業績不預示其未來業績，其他基金業績不構成本基金業績的保證。